在半导体和液晶显示器制造等先进行业中，对更高精度、更大直径的硅片和液晶基板的需求日益增长，以实现设备小型化和提高生产率。随着天文望远镜反射镜、同步辐射装置的X射线聚焦镜等超高精度光学器件在基础科学中的应用越来越广泛，对高精度表面轮廓的需求不断增长。斐索干涉仪通常用于测量大直径平面基板的高精度表面轮廓。该技术允许使用单一工艺获得三维表面轮廓并实现纳米级分辨率。使用此方法可以测量物体表面与参考平面（或球体）之间的差异。因此测量的绝对精度受到参考平面精度的限制，难以达到纳米级的绝对精度。一个主要问题是参考平面越大，它就越有可能因重力而变形。

研究人员在世界上首次开发出一种适用于直径达 600 毫米的平面基材的表面轮廓仪，可以以纳米级的绝对精度测量表面不规则性。斐索干涉仪通常用于测量高精度表面轮廓。测量原理基于与参考平面的比较，测量精度约为 λ/20（约 32 nm），具体取决于参考平面的精度。所开发的轮廓仪无需参考平面即可直接测量表面轮廓，从而可以测量直径最大为 600 mm 的平面基材的轮廓，绝对精度为 5 nm 或更小。该精度相当于识别关东平原（17,000公里²).