超级洁净室 (SCR)

浸没式ArF准分子激光曝光系统

铜CMP设备

Interior scenery

300mm加工晶圆

• 设备列表[PDF：90KB]
• 单价表[PDF：105KB]
• 如何使用/格式

设施概览

超级洁净室

• 建筑面积：3000㎡
• 清洁度：3 级（JIS B 9920、ISO 14644-1）
• 晶圆尺寸：兼容300mm
• 浸入式ArF应用CMOS技术基础

洁净室环境

• 温度/湿度：
  23±1℃ 45±5% 使用FFU（精细过滤单元）的单向流系统
• Chemical pollution control:
  相同的横截面和4层密封隔间，一些化学过滤器
• 振动措施：
  地面改良/垫板/伸缩缝/局部混凝土楼板

SCR 可以做什么

SCR拥有在300mm硅片上形成通用半导体集成电路的工艺设备，并且可以使用如下所示的工艺菜单进行研发、单独工艺模块和单工艺处理。
此外，为了应对新技术的发展，我们还接受有关新材料研发的预清洗处理和污染对策的咨询。
请参阅条款及条件以及单价表，了解可用设备的列表。

*当前进程菜单

• 硅光子无源器件工艺（300mm晶圆）
• Bulk & SOI 65nm 代等效晶体管工艺（300mm 晶圆）
• 相当于45nm一代的两层Cu互连工艺（300mm晶圆）