公告/发布日期:2021/05/30

米乐m6官方网站 SiC单片电源IC开发成功

-世界第一! SiC垂直MOSFET和SiC CMOS的单芯片集成-

积分

  • SiC 垂直 MOSFET 和 SiC CMOS 集成到一颗芯片中并演示开关操作
  • 通过开发独特的器件结构,我们实现了 SiC CMOS 的输出电流增加和高电压隔离
  • 体积更小、重量更轻、性能更高、功能更强,有望扩大功率转换设备的应用范围

摘要

国立先进产业科学技术研究所 [主席:石村和彦](以下简称“AIST”)先进电力电子研究中心[研究中心主任:Hiroshi Yamaguchi] 功率器件团队 Mitsuo Okamoto,首席研究员,Shinsuke Harada,研究组组长,电源电路集成组:Atsushi Yao,研究员,Hiroshi Sato,研究组组长碳化硅 (SiC) 半导体、耐压12kV级立式MOSFETCMOS组成驱动电路集成在同一芯片上单片电源IC全球首次并确认了其切换操作。

SiC单片电源IC是电力转换设备更小、更轻、降低损耗,由于SiC CMOS同时实现高输出电流和高电压绝缘的艰巨任务,迄今为止还无法实现这一目标。此次,AIST开发了AIST独有的新器件结构,成功同时实现了SiC CMOS的高电压隔离和高输出电流。基于该技术,我们开发了在同一芯片上集成了CMOS驱动电路和SiC垂直MOSFET的SiC单片功率IC,并在世界上首次演示了开关操作。此次开发的技术是一项成果,开辟了SiC传感器和SiC逻辑电路等功能集成的道路,预计将扩大其在电力转换设备中的用途。

这项技术的详细信息将于 2021 年 5 月 30 日至 6 月 3 日在线举行的第 33 届功率半导体器件和 IC 国际研讨会 (ISPSD) 上公布。

图

开发的SiC单片功率IC及其等效电路的显微照片


发展的社会背景

近年来,全球变暖问题日益严重,节能(CO2减少)是迫切需要。电力电子技术负责电能的转换和控制,是实现家用电器和工业设备节能的关键技术之一。为了在2050年实现碳中和,需要在各地引进大量应用电力电子技术的电力转换设备。减小功率转换设备的尺寸、重量、性能和功能对于扩大功率转换设备的应用并大量引入它非常重要,而发挥核心作用的功率器件的创新至关重要。

与传统上用作功率器件材料的Si相比,SiC具有优越的物理性能,并且能够以较低损耗处理大电流和高电压的SiC垂直MOSFET已经投入实际应用。另一方面,由于SiC单片功率IC的制造难度较大,因此相关报道甚少。特别是,迄今为止还没有实现能够实现简单的电路结构并配备有低功耗CMOS驱动电路的SiC单片电源IC。其主要原因是,即使在高电压下也不会击穿的SiC CMOS驱动电路的输出电流较小,因此难以切换SiC垂直MOSFET。

 

研究历史

AIST 一直致力于 SiC 功率器件的量产技术开发。第一代结构独特的SiC功率MOSFET(晶体管)IE-MOSFET,第二代IE-UMOSFET此外,我们还对用作驱动电路的SiC CMOS进行研究,开发制造工艺的基础技术并评估特性。此外,我们一直在研究和开发使用SiC功率器件的开关技术。现在,通过结合这些研究成果,我们开发了在同一芯片上集成 IE-UMOSFET 和 SiC CMOS 的 SiC 单片功率 IC,并演示了其开关操作。

这项研究和开发得到了 NEDO 领先研究计划/能源和环境新技术领先研究计划(2020-2021)的支持,该项目是新能源和产业技术开发组织委托的项目。

 

研究内容

AIST现已开发出一种SiC单片功率IC,将垂直MOSFET和CMOS驱动电路集成在同一芯片上。概念图如图1所示。传统上,CMOS驱动电路和垂直MOSFET被分离到单独的芯片中,并且它们的信号布线通过金属线或印刷电路板完成。由于垂直MOSFET施加高电压,因此需要与CMOS驱动电路足够的绝缘距离,这是阻碍功率转换设备变得更小、更轻的一个因素。此外,信号线路中存在的寄生电感(非预期的电感成分)会对开关操作产生不利影响,导致损耗增加。所开发的单片电源IC在同一芯片上集成了垂直MOSFET和CMOS驱动电路,最大限度地缩短了信号布线长度,从而可以减小尺寸和重量,并减少寄生电感。

图1

图1 已开发的单片电源IC技术的概念图

图2显示了所开发的SiC单片电源IC的特性。如图2(a)所示,SiC单片功率IC由两个区域组成:垂直MOSFET区域和CMOS驱动电路区域。立式MOSFET采用产研社开发的IE-UMOSFET。 CMOS驱动电路与IE-UMOSFET形成在同一p型层上,我们成功地实现了(1)增加p型MOSFET输出电流和(2)高耐压。下面具体说明两点。

(1) p型MOSFET输出电流增加:一般来说,SiC CMOS的问题是p型MOSFET输出电流远低于n型MOSFET输出电流,这一直是SiC CMOS驱动电路实现开关操作的障碍。我们相信IE-UMOSFET的p型层具有高晶体质量外延膜的特性,不改变制造工艺外延嵌入式通道成立了。结果,我们成功地将 p 型 MOSFET 的输出电流提高了四倍(图 2(b))。

(2)耐压:通过与IE-UMOSFET共同耐压结构形成SiC CMOS,我们成功地将CMOS驱动电路与1500V的漏极电压隔离,而无需增加新的制造工艺(图2(c))。

图2

图2(a)截面示意图,(b)外延埋沟道的影响,(c)新开发的SiC单片功率IC的耐压特性

图3显示了所制造的SiC单片电源IC的开关操作波形。开关动作的漏极电压为600V,漏极电流为10A。获得了从导通状态到截止状态(关断)的开关动作波形以及从截止状态到导通状态(导通)的开关动作波形,是世界上首次使用SiC单片功率IC进行开关动作的演示。

图3

图3 SiC单片功率IC的开关工作波形
(a)关断波形,(b)开启波形

 

未来计划

未来,我们的目标是进一步提高SiC CMOS驱动电路的输出电流,实现SiC单片功率IC的高速开关。此外,通过集成传感器、逻辑电路等并推进更高功能,将提高便利性,并有助于扩大电力转换设备的应用范围。


术语解释

◆碳化硅(SiC)半导体
由碳(C)和硅(Si)组成的化合物半导体。与传统的硅半导体相比,它具有优异的物理特性,可以改善功率器件的特性。 SiC用于功率器件时,其耐压能力比Si器件高一个数量级,因此有望成为下一代功率器件的材料。[返回来源]
◆立式MOSFET
MOSFET 是金属/氧化物/半导体场效应晶体管。通过控制电极(栅极)的电压改变内部导通状态,控制晶体管的输入电极(源极)和输出电极(漏极)之间的开关状态(内部电路的开/关状态)。根据所用半导体的导电类型,MOSFET 有两种类型:以正控制电压工作的 n 型 MOSFET 和以负控制电压工作的 p 型 MOSFET。 SiC功率器件通常采用n型MOSFET,具有垂直结构,源极和栅极位于衬底的正面,漏极位于衬底的背面。[返回来源]
◆CMOS
互补 MOS。结合了p型MOSFET和n型MOSFET的电子电路。当一个打开时,另一个关闭,这是一种互补操作。它具有功耗低、电路配置简单等诸多优点。请注意,这是一种水平结构,其中所有电极都放置在基板的正面。[返回来源]
◆驱动电路
一种电子电路,用于产生发送到 MOSFET 控制电极(栅极)的信号。[返回来源]
◆单片电源IC
将主功率器件和驱动电路等外围电路集成在同一芯片上的集成电路(IC)。[返回来源]
◆电力转换设备
利用由半导体晶体管构成的功率器件的开关(内部电路的开/关)来进行功率转换(DC/AC转换和电压转换)和控制的设备。[返回来源]
◆IE-MOSFET
AIST开发的SiC垂直MOSFET,称为注入和外延MOSFET。它具有平面结构,其中其开关状态由控制电极(栅极)控制的半导体区域(沟道)平坦地形成在表面上。通过在高质量晶体区域中形成沟道,降低了导通电阻。[返回来源]
◆IE-UMOSFET
AIST 开发的 SiC 垂直 MOSFET,称为注入和外延沟槽 MOSFET。它具有沟槽型结构,其中在设置于表面上的沟槽的侧壁上形成有由控制电极(栅极)控制开关状态的半导体区域(沟道)。该结构为沟槽型IE-MOSFET,显着降低了导通状态下的电阻。[返回来源]
◆外延片
外延生长的薄膜继承了下面的晶体结构。结晶度高,晶体缺陷少。通过在生长过程中引入杂质,可以控制n型和p型导电性。[返回来源]
◆外延嵌入式通道
开关状态由MOSFET的控制电极(栅极)控制的半导体区域称为沟道,杂质浓度发生变化的沟道区域称为埋入沟道。引入它是为了改善从关断状态到导通状态开始转变的控制电压(阈值栅极电压)以及电流在导通状态流动的容易程度(沟道迁移率)。这种由外延膜形成的埋入沟道称为外延埋入沟道。尽管由于外延膜的结晶度高,改善效果较高,但通常需要额外的外延生长,这给制造工艺带来了很大的负担。[返回来源]


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