Keiji Ohno,高级研究员,石桥微器件工程实验室,RIKEN 先锋研究总部(全职研究员,量子效应器件研究组,紧急物质科学研究中心),米乐m6官方网站 (AIST)纳米电子研究部纳米CMOS集成组首席研究员Takahiro Mori领导的联合研究小组※是硅量子位[1]在10K高温(约-263℃)下。
这项研究成果创造了一种即使在小型冷却装置中也能运行的量子位,因此预计它将带来量子位的广泛应用,例如传感器。
硅电子自旋[2]的硅量子位可以利用现有的硅晶体管制造技术来制造,并且由于其与传统硅集成电路良好的连接性而受到关注。然而,传统的硅量子位只能在01K以下(约-273℃)的极低温度下运行,并且需要大型设备对其进行冷却。
这次联合研究小组将重点关注深层杂质[3](铝-氮杂质对),我们实现了比以前高100倍以上的温度(10K)下的量子位操作。具体来说,隧道场效应晶体管[4]将深层杂质引入结构中,并将电子从深层杂质中提取到晶体管电极。自旋闭合现象[5]'' 用于读取量子位的状态作为晶体管的电气特性。
这项研究发表在英国科学杂志'科学报告''将以网络版发布(日本时间1月24日)。
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| 图:隧道场效应晶体管(透射电子显微镜图像)并引入“深层杂质”(示意图) |
※联合研究小组
理化学研究所先锋研究总部石桥微器件实验室
大野敬二
(新兴物质科学研究中心量子效应器件研究组专职研究员)
产业技术综合研究所纳米电子学研究部纳米CMOS集成组
首席研究员森隆宏
国立材料科学研究所国际纳米结构研究中心
量子器件工程组
首席研究员森山聪
※研究支持
本研究得到日本学术振兴会(JSPS)科学研究补助金B“与硅MOS技术兼容的自旋量子位及其大规模集成(研究代表:大野敬二)”、“硅隧道晶体管在量子点器件中的应用研究(研究代表:森山聪)”和青年研究员A“隧道晶体管”的支持。该项目得到了基础研究A“通过纳米技术中的陷阱工程创建新功能器件(首席研究员:Takahiro Mori)”、基础研究A“创建用于硅量子位集成的基本自旋耦合技术(首席研究员:安田哲二)”和高级研究与开发支持计划(FIRST)“开发绿色纳米电子学核心技术” (主要研究员:横山直树)。”此外,该研究课题目前正在由RIKEN和AIST选定并支持,以根据RIKEN和AIST之间的基本协议实现世界首创/世界最佳技术(RIKEN-AIST“挑战研究”)的联合研究。
量子位是可以处于 0、1 或其量子力学叠加状态的位。通过组合大量的量子位,量子计算机[6],甚至单个量子比特也有望应用于传感器等。
特别是,利用硅中电子自旋的硅量子位可以使用现有的硅技术来制造,并且由于其与传统硅集成电路的良好连接性而引起人们的关注。然而,传统的硅量子位与使用超导电路的超导量子位一样,需要01 K(约-273°C)或更低的极低温环境才能运行。产生这种温度的冷却设备价格昂贵,每台约 1 亿日元,长度为 10m2的较大安装空间。
因此,联合研究小组尝试开发在比传统量子位更高的温度下运行的硅量子位。对于在高温下运行的量子位,评估需要一个小型、廉价的冷却装置,以便轻松交换样品,这可以通过节省研发成本、空间和时间来加速未来的研发。
硅量子位使用硅中的局域电子自旋态(向上、向下或量子叠加态)。对于在高温下运行的量子位热能引起的干扰[7]更强的局域电子实现局域电子的一种方法是使用量子点结构,将电子三维地限制在狭窄的区域内。然而,为了利用这种方法实现强局域化,需要将电子限制在极小的区域内,而现代加工技术很难实现这一点。第二种方法是利用杂质。这利用了杂质形成的能级,相当于限制了单一杂质,即原子大小的量子点。到目前为止,已经使用了磷等常见杂质(浅层杂质),但浅层杂质的问题是电子不强局域化。因此,联合研究小组使用了硅中的“深层杂质”。除了磷、硼等浅层杂质外,已知硅中还存在许多深层杂质。与浅层杂质一样,可以利用现有技术将深层杂质引入到硅中。除了由单一元素构成的杂质之外,由铝和氮杂质紧密形成的杂质对也形成深层能级。因此,我们在本研究中使用铝-氮杂质对作为量子位。
要将量子位的状态读取为电信号,需要将深层杂质电子提取到晶体管电极。杂质电子向电极的转移为隧道效应[8]然而,在传统的晶体管结构中,这隧道屏障[8]变得太厚并且无法正确提取电子。因此,通过使用隧道场效应晶体管元件,我们成功地减薄了隧道势垒并将电子提取到电极(图1和图2)。
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图1隧道场效应晶体管(透射电子显微镜图像)并引入“深层杂质”(示意图) 此次制造的硅量子比特实现的隧道场效应晶体管的透射电子显微镜图像中,引入的深层杂质显示为红点。从源电极流向漏电极的电子由栅电极处的电压控制。 1nm 是十亿分之一米。 |
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图2 传统晶体管(左图)和隧道场效应晶体管(右图) 与源极和漏极均为N型的传统晶体管(左上图)不同,本次使用的隧道场效应晶体管由N型源极和P型漏极组成(右上图)。下图是从每个晶体管对应的传导电子看到的能量示意图。隧道场效应晶体管与传统晶体管的不同之处在于,其相对较薄的隧道势垒允许隧道传导穿过深能级。 |
我们利用自旋闭合现象来读取取出到电极的电子的自旋状态(图3)。在该方法中,当要读取自旋的杂质(目标杂质)的电子被引出到电极时,它们必须穿过另一个杂质(破坏杂质)才能被引出。然后,泡利不相容定律[9]的量子力学效应,如果两种杂质具有相同的自旋态,电子就无法相互接近,也无法被提取到电极。
另一方面,当自旋态不同时,电子彼此接近并到达相同位置,因此它们可以通过断路器杂质被提取到电极。结果,可以将目标杂质的电子自旋状态作为电信号读出。除了这种读出方法之外,磁共振[10]我们通过利用技术操纵电子自旋态来确认量子位的操作。
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图3 通过自旋闭包读出自旋状态 晶体管的源极、漏极和两个杂质(目标和断路器)的示意图。左图显示了目标杂质的电子自旋与断路器杂质的电子自旋相同的情况(两者都显示为向上的箭头)。由于泡利不相容定律,目标杂质中的电子不能移动到破坏杂质。右图显示了电子自旋不同的状态(分别显示为向上和向下箭头),目标杂质的电子自旋可以通过破坏杂质转移到漏极。 |
这次,我们使用铝-氮杂质对作为目标杂质,并使用器件中最初存在的浅层杂质作为断路器杂质。结果,我们成功地在最高温度10K(-263℃)下运行量子位。该温度比传统硅量子位的工作温度(01K以下)高出100倍以上。
另外,在本文中,联合研究小组是单电子传导[11]评估单一深层杂质并证实即使在室温下,深层杂质中的电子也强烈局域化。
本研究中的工作温度上限限于10K,因为断路器杂质是浅层杂质,其自旋状态受到热能的干扰。将来,通过使用单独的深层杂质作为断路器杂质,我们可以期望在更高的温度下运行。
我们开发的高温硅量子位具有将单个量子位嵌入晶体管的结构,使其适合传感器等应用。未来的挑战将包括构建量子计算机所需的位对位耦合技术以及实现更可靠的控制技术。
<标题>
硅量子位的高温运行
<作者姓名>
小野敬二、森贵宏和森山聪
<杂志>
科学报告
<DOI>
101038/s41598-018-36476-z