公告/发布日期:2018/02/13

米乐m6官方网站 开发下一代非易失性磁存储器的新记录技术

-通过使用磁铁作为布线材料的一部分实现高可靠性和性能-

积分

  • 面内电流型磁存储器中利用反常霍尔效应实现新记录技术
  • 发现通过在部分布线中使用廉价的铁基磁性材料可以获得高记录效率
  • 由于技术原理可以减少记录重写中的错误,因此预计具有高可靠性


摘要

国立先进产业科学技术研究所[院长:Ryoji Chubachi](以下简称“AIST”)自旋电子学研究中心[研究中心主任:Shinji Yuasa] Kenji Iihama,日本学术振兴会研究员,Hitoshi Kubota,首席研究员,金属自旋电子学团队 Tomohiro Taniguchi,首席研究员,Kei Yakushiji 研究小组负责人认为,下一步通过使用铁基磁性材料作为布线材料,一代将能够实现高可靠性。非易失性磁存储器提出了一种新的记录技术,并通过实际制作元件演示了其原理。

近年来,AIST等一直在开发磁性材料异常霍尔效应的物理特性来减少非易失性磁存储器中的记录重写错误。这次,我们使用钴铁合金磁体材料作为布线材料、镍铁合金磁体材料作为记录层,制作了具有新结构的面内电流型磁存储元件,并演示了记录技术的原理。因此,采用廉价且常见的铁基材料进行布线自旋注入效率与铂等现有材料制成的接线一样高效,并且还表明它具有高度可靠性,可以减少重写记录时的错误。新开发的元件结构和记录技术有望实现结合高可靠性和节能功能的下一代非易失性磁存储器。

该结果的详细信息于2018年2月8日(英国时间)在线发表在《Nature Electronics》上。

(左)这次制造的器件的示意图和(右)根据该结果提出的非易失性磁存储器的示意图
通过使电流通过磁铁的下部布线,可以重写位于上方的记录层中的信息
(左)本次制作的装置示意图
(右)根据该结果提出的非易失性磁存储器的示意图


发展的社会背景

在人工智能、物联网设备活跃的未来社会,IT设备的超低功耗将成为越来越重要的问题。例如,在移动IT设备中,CPU和内存消耗高达总功耗的30%至40%,这是需要频繁充电的因素。解决这个问题的一种方法是开发非易失性存储器。其中,使用磁性隧道结元件垂直电流型的非易失性磁存储器不仅具有非易失性,还具有高速、大容量、高重写耐用性等特点,作为新一代通用存储器而备受关注。

也是最近,如图1(左)面内电流类型磁存储器的研究也日趋活跃。该装置基于被称为记录层的磁体的磁化方向来存储信息,并且当重写信息时,电流通过记录层下方的由非磁性材料制成的布线以反转记录层的磁化。由于电流不直接穿过记录层,因此与垂直电流型相比,记录层受到电损坏的风险较小,并且由于写入和读取电路是分离的,因此更容易控制存储功能。由于这些特性,它被广泛期望应用于需要超低功耗和超越半导体存储器的超高容量存储器的物联网设备。

(a)传统面内电流型器件和(b)此处提出的新结构的比较图
图1(a)传统面内电流型器件与(b)此处提出的新结构的比较

研究历史

自2004年发明带有氧化镁(MgO)隧道势垒层的高性能隧道磁阻元件以来,产业技术研究所将该元件定位为实现大容量垂直电流型非易失性磁存储器的核心技术,并一直在开发国内外领先的器件。与此同时,自2014年以来,我们一直与美国国家标准与技术研究所和法国国家科学研究中心合作开展面内电流型磁存储器的研究。我们从理论上提出,如果将部分下部布线替换为磁性材料,则可以更可靠地重写信息,从而显着提高记录可靠性(图1右)。然而,目前还没有关于验证这一理论的报道,即创建一种由磁性材料制成的布线的新结构元件,或证明记录技术的原理。

研究内容

这次,AIST 使用磁性材料布线创建了面内电流型磁存储器,并致力于演示信息记录,作为上述原理的演示。在采用非磁性材料制成的导线的传统面内电流型磁存储器中,当将重写信息的自旋注入记录层时,自旋的方向固定在横向,因此磁化保持在横向,如图1(左)所示。为了准确地重写记录信息,磁化方向必须垂直于记录层平面(图中向上或向下);如果在水平方向停止,将导致记录不完整(错误)。另一方面,在AIST等提出的使用磁体材料配线的面内电流型磁存储器中,当将用于重写信息的自旋注入记录层时,自旋的方向具有除横向以外的分量,因此记录层的磁化方向完全向上或向下,从而导致可靠的信息重写。这种非横向自旋方向是可能的,因为磁性材料具有称为反常霍尔效应的物理特性。这样,通过利用反常霍尔效应,可以消除由于自旋注入导致的不完整信息写入,这一直是传统面内电流磁存储器的弱点,并且可以提高可靠性。以上是AIST等人自2014年以来理论上提出的新技术的概述。

为了演示原理,我们创建了一个具有图 2(左)所示结构的元素。下布线的磁体材料使用钴铁合金,上磁体使用镍铁合金,其对应于磁存储器的记录层。还有 2 个磁铁磁耦合,我们创建了一个三层薄膜,其间夹有低电阻铜。当对薄膜施加外部磁场时,镍铁合金和钴铁合金的磁化指向该外部磁场的方向。当交流电流通过这种状态下的薄膜时,产生交变磁场,并且记录层(镍铁合金)的磁化强度开始跟随交变磁场振荡。然后磁阻效应,在元件的左端和右端之间出现直流电压信号。该电压信号与外部磁场的关系如图2(右)所示。特别是交流电的频率和外部磁场的大小共振现象满足时,电压信号增加。

本次制作的器件示意图(左)和示例电压信号(右)
图2 本次制作的器件示意图(左)和电压信号示例(右)

当直流电流通过布线(钴铁合金)同时施加交变磁场以使记录层(镍铁合金)振动时,自旋通过磁耦合分离层(铜)从布线注入到记录层。此时,随着记录层的磁化试图与注入自旋的方向对齐,磁化振荡的幅度发生变化。在观测数据上,可以获得电压信号宽度的变化,如图2(右)所示。由于该宽度变化反映了注入的自旋量,因此可以根据电压信号宽度的变化来评估自旋注入效率。这次,通过测量电压信号宽度、电流和外部磁场之间的关系获得从布线到记录层的自旋注入效率约为15%。这是与使用非磁性材料的传统元件相比的高效率。

尽管很难预测 AIST 及其同事在 2014 年提出的理论中的自旋注入效率,但这一原理证明首次表明,即使使用廉价且常见的铁基布线,利用反常霍尔效应的自旋注入也足够高效。

此外,在图2(右)中,电压信号宽度由于直流电流而增加,但是当直流电流以相反方向通过时,信号宽度变得更窄。这表明,如果直流电流的方向相反,则注入的自旋方向也相反;也就是说,在该装置中,磁化可以向上或向下反转。该特性对于磁存储器应用至关重要。

这次,我们使用钴铁合金磁体材料作为面内电流型磁存储器的布线制造了一种新器件,并利用反常霍尔效应演示了自旋注入。这种新器件显示出具有高自旋注入效率的信息写入性能,可与使用非磁性材料互连的传统面内电流型磁存储器相媲美。此外,这种采用磁性材料布线的新结构消除了重写信息的不完整性,这是传统非磁性材料布线的弱点,并且有可能通过减少错误来显着提高可靠性。从选择布线材料的角度来看,很明显廉价且普通的铁(在本例中为钴铁)可以提供高性能,预计这将对未来面内电流型磁存储器的材料策略产生重大影响。

未来计划

未来,我们将继续研究磁化反转来演示写入操作。我们还将致力于优化器件结构和材料,以降低功耗。该公司还将致力于开发针对新应用的设备,例如高频振荡设备。



术语解释

◆非易失性磁存储器
使用磁铁薄膜作为存储元件的存储器。基本元件是一个三层结构,绝缘膜夹在两个磁体之间。当两块磁铁的磁化强度指向同一方向时,该元件的电阻较低,而当磁化强度指向相反方向时,该元件的电阻较高。利用磁阻效应,记录和读取“0”和“1”信息。即使存储器与电源断开,磁化方向也保持不变并存储信息。这种状态被称为“磁存储器是非易失性的。”[返回来源]
◆异常霍尔效应
当电流流过磁铁时,会在与电流和磁铁磁化强度垂直的方向上产生电压。这称为反常霍尔效应。使用“异常”一词是为了将其与正常的霍尔效应(一种在施加磁场的情况下电流流过非磁性金属时,在与电流和磁场垂直的方向上出现电压的现象)区分。反常霍尔效应是一种历史悠久的现象,于19世纪末被发现,本次研究的重点是反常霍尔效应不仅会产生电压,还会注入自旋。[返回参考源]
◆自旋注入、自旋注入效率
电子除了被称为携带电力的电荷之外,还具有作为小磁铁的特性。这称为旋转。因此,当电流通过金属时,不仅有电荷流动,还有自旋流动。这称为自旋电流。将这种自旋流注入材料中称为自旋注入。这次,我们利用反常霍尔效应进行自旋注入。注意,在下部布线使用非磁性材料的传统元件中的自旋注入被称为自旋霍尔效应,其与反常霍尔效应不同。
在这项研究中,一些负责流过钴铁合金的电流的电子通过反常霍尔效应注入到镍铁合金中。自旋注入效率是流过钴铁合金的电流与反常霍尔效应注入的自旋电流之比。例如,在图3(右)中,当电流从左向右流动时,四个电子从右向左移动(电流的方向和电子流的方向相反)。在这四个电子中,三个沿直线行进,但一个被注入到上面的材料中。在这种情况下,自旋注入效率为(1/4)×100=25%。在这项研究中,自旋注入效率是根据流经钴铁合金的直流电流变化时电压信号宽度的变化率来评估的。[返回来源]
自旋和自旋注入的概念图
图3 自旋和自旋注入概念图
◆垂直电流型、面内电流型
如图1所示,许多厚度约为1纳米(百万分之一毫米)的磁体相互堆叠的结构称为层压膜。通过在垂直于层压薄膜的薄膜表面的方向(图1中的垂直方向)上流过电流来工作的器件被称为垂直电流型磁存储器。另一方面,通过在横向(平行于膜表面)上流过电流来工作的器件被称为面内电流型磁存储器。历史上,面内电流型器件的研究最早是在20世纪80年代末期进行的,但后来发现垂直电流型器件可以获得大信号,研究的主流转向垂直电流型器件。然而,由于垂直电流型器件向包括隧道势垒层的记录部分施加电压,因此仍然存在需要克服的问题,例如由电流传导引起的损坏。[返回来源]
◆磁力耦合
当镍铁合金直接放置在钴铁合金上时,两个磁铁的磁化强度在它们接触的表面上结合,导致它们一起移动。这是由于两个磁化强度之间的相互作用,它们试图通过磁体内部的电子来对齐或反转方向。如果发生这种耦合,在观察镍铁合金的共振时,甚至钴​​铁合金的磁化强度也会发生振荡,从而使观察结果变得复杂。这次,我们通过夹入铜来消除这种耦合,使我们能够更清楚地观察自旋注入现象。[返回来源]
◆磁阻效应
磁铁的电阻取决于磁化方向的现象,有多种类型。例如,存在被称为反常霍尔效应和各向异性磁阻效应的现象,它们是单个磁体的电阻根据磁化方向与电流流动方向之间的相对角度而变化的磁阻效应。在该装置中,利用这种各向异性磁阻效应获得电压信号。
除此之外,还存在磁阻效应,在层叠两个或多个磁体的多层结构中,电阻根据一个磁体的磁化方向与另一个磁体的磁化方向平行还是反平行而变化。巨磁阻效应和隧道磁阻效应等现象被称为这种多层结构中的磁阻效应,并且由于它们在使用单个磁体时比反常霍尔效应或各向异性磁阻效应具有更高的电阻变化率,因此被用于传感器和存储器应用。[返回来源]
◆共振现象
如果对摆锤施加特定频率的力,即使力很弱,也会产生很大的振动。这称为共振现象。在磁铁的情况下也观察到类似的现象。当对磁体施加交变磁场时,磁化强度会发生振荡,因为它试图与磁场方向对齐。此时,当交变磁场的频率达到某一特定值时,即使在弱磁场中,磁化方向也会发生较大振荡。典型材料的振动频率为千兆赫(每秒 10 亿次振动)。如本实验所示,交变磁场是由交流电产生的。根据实验的不同,除了交流磁场之外,还可以施加直流磁场(外部磁场)。在这种情况下,发生共振的频率根据外部磁场而变化。使用外部磁场的原因是,在寻找共振现象时,在实验上改变外部磁场的大小比改变交变磁场的频率更容易。[返回来源]



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